真空紫外光源

真空紫外到可见线谱和连续谱系列光源.射频激发，带有氟化镁窗口，体积小巧，重量轻，稳定性优异，广泛用于真空紫外类仪器的光谱定标，著名的哈勃望远镜上就采用我们这种光源作为波长和强度校正基准。147nm和172nm的氙灯广泛用于PDP研究和生产线质量监控。

射频激发的真空紫外光源,其主要特点有:
1.稳定性优异.哈伯望远镜上就是采用这种光源作为校正基准. 其波长决定于原子的特征谱线,半高宽通常在10^-4nm量级.激发方式为射频,没有电极,因而避免了一般电极放电导致的强度不稳定.
2.强度高.
3.使用寿命长，发光时间超过4000小时.
4.真空接口方便灵活.
5.可以提供航天级超小超轻型，经过Space Qualified整套严格测试。
6.可以根据客户的特殊需要定制，提供包括带有真空紫外光谱仪和可NIST溯源的标准探测器在内的全套系统。应用实例：NIST溯源真空紫外连续可调光源

我们提供以下真空紫外灯：

大功率的真空紫外光源REX-4，广泛用于半导体材料的表面清洗。

波长小于115nm的光源，可以参考我们的极紫外气流光源。　

真空紫外光源氟化镁窗口清洗说明

真空紫外光源选用高品质的氟化镁窗口，以确保真空紫外波段的高透过率。实际使用中由于空气中少量的有机物进入到真空腔内，在紫外光的照射下，会形成光聚合物薄膜，附着在氟化镁窗口上。这种聚合物就是真空紫外污染，它对真空紫外波段的光吸收特别强，导致光源的强度衰减，衰减的速度受多种因素的影响，比如空气质量、真空度的高低等等。不抽真空直接打开光源，其强度会迅速下降。有些时候，不小心手指头碰到氟化镁窗口显然也会导致窗口片的退化。

出现这些问题，可以通过清洗氟化镁窗口来修复:

用棉棒沾一点抛光粉（ 1微米氧化铝粉末）轻轻擦拭氟化镁窗口，重复多遍直到窗口片清洁为止，然后用干净的棉棒拭去抛光粉。窗口片上剩余的少量抛光粉对光的吸收微不足道，如果需要，可以用高纯度的惰性气体或氮气吹走，千万不要用实验室普通的空气压缩机来吹，因为它可能含有压缩机油。